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            如何有效提高鈣鈦礦太陽能電池的PLQY光致發光量子產率

             更新時間:2025-08-21 點擊量:416

            提高鈣鈦礦太陽能電池的 PLQY(光致發光量子產率)的核心邏輯是抑制非輻射復合(減少缺陷態捕獲載流子的概率),同時優化載流子的輻射復合效率。基于 PLQY 的影響因素(缺陷、結晶度、界面質量、環境穩定性等),目前研究中已發展出一系列有效策略,


            具體可分為以下幾類:

            一、缺陷鈍化:減少非輻射復合中心

            缺陷(表面 / 體相缺陷、晶界缺陷)是導致非輻射復合的主要原因,因此缺陷鈍化是提升 PLQY 的核心策略。


            1. 表面鈍化:靶向修復表面缺陷

            鈣鈦礦薄膜表面存在大量未配位的離子(如 Pb2?)和懸掛鍵,是高活性的非輻射復合中心。表面鈍化通過引入功能性分子 / 離子,填補缺陷并降低表面態密度。


            · 有機分子鈍化
            含氨基(-NH?)、羥基(-OH)或硫基(-SH)的有機分子(如PEA?、丁胺(BA?)、硫脲、胍鹽等)可通過配位鍵與表面未飽和的 Pb2?結合,中和缺陷電荷。例如,PEA?修飾的 MAPbI?表面可使 PLQY 從 10% 提升至 60% 以上。


            · 無機離子鈍化
            無機鹽(如 CsI、RbCl、KBr、Pb (SCN)?)中的陽離子(Cs?、Rb?)或陰離子(I?、Cl?、SCN?)可填補晶格空位(如 A 位空位、X 位空位),抑制缺陷形成。例如,CsI 鈍化可減少 FA?.??MA?.??PbI?的表面缺陷,PLQY 提升 30% 以上。


            · 二維鈣鈦礦鈍化層
            在三維鈣鈦礦表面生長二維鈣鈦礦(如 (PEA)?PbI?、(BA)?PbI?),其疏水性表面可同時鈍化缺陷并阻隔水氧。二維層的長鏈有機陽離子可覆蓋表面缺陷,且二維 / 三維界面的能級匹配可減少載流子在表面的非輻射復合,使 PLQY 顯著提升(部分體系可達 90% 以上)。


            2. 體相鈍化:抑制內部缺陷形成

            體相缺陷(如空位、間隙原子、雜質相)主要源于鈣鈦礦結晶過程中的動力學不穩定或化學計量比失衡,體相鈍化通過調控結晶過程或引入摻雜劑抑制缺陷。


            · 前驅體摻雜鈍化
            在鈣鈦礦前驅體中引入少量“缺陷捕獲劑"(如脲類、硫脲類、氨基酸衍生物),其分子中的極性基團(如 C=O、C=S)可與 Pb2?或 I?配位,抑制結晶過程中缺陷的生成。例如,前驅體中添加 0.5% 的硫脲可使 CsPbI?的體相缺陷密度降低一個數量級,PLQY 從 20% 提升至 70%。


            · 離子摻雜調控晶格
            引入異質離子(如 A 位摻雜 Cs?、Rb?;X 位摻雜 Br?、Cl?)可穩定鈣鈦礦晶格,減少因晶格畸變產生的缺陷。例如,FA?.??Cs?.??PbI?(FA:甲脒,Cs:銫)相比純 FAPbI?,晶格更穩定,體相缺陷更少,PLQY 提升約 40%。


            二、結晶調控:減少晶界缺陷

            晶界是缺陷密集區(如未配位離子、晶格錯位),高結晶度、大晶粒的鈣鈦礦薄膜可減少晶界密度,從而降低非輻射復合。


            1. 溶劑工程優化結晶動力學

            通過調控前驅體溶液的溶劑組成或揮發速率,促進晶粒緩慢生長,形成大尺寸、低缺陷的晶體。


            · 混合溶劑策略在 DMF(N,N - 二甲基甲酰胺)或 DMSO(二甲基亞砜)中加入高沸點溶劑(如 GBL(γ- 丁內酯)、CB(氯苯)),延緩溶劑揮發,延長結晶時間,使晶粒充分生長。例如,MAPbI?前驅體中添加 GBL 可使晶粒尺寸從 1μm 增至 5μm 以上,晶界密度降低,PLQY 提升 25%。


            · 反溶劑輔助結晶:在鈣鈦礦濕膜上滴加反溶劑(如二乙基醚、氯苯),快速降低前驅體溶解度,誘導均勻成核,減少小晶粒和晶界。優化反溶劑滴加時間(如在薄膜半干燥時滴加)可進一步提升結晶質量,PLQY 可提高 30%~50%。


            2. 退火工藝優化

            退火溫度和時間直接影響結晶度:低溫退火易導致結晶不全面(非晶相多),高溫退火可能引發組分揮發(如 MA?分解)。


            · 分步退火:先低溫(60~80℃)預處理,使前驅體緩慢成核;再高溫(100~150℃)退火,促進晶粒生長和缺陷修復。例如,FAPbI?采用“80℃/5min + 150℃/10min" 分步退火,結晶度顯著提升,PLQY 從 15% 增至 55%。


            三、界面工程:抑制界面非輻射復合

            鈣鈦礦與電荷傳輸層(HTL/ETL)的界面是載流子復合的 “高危區"(能級失配、界面缺陷),優化界面可減少復合損失。


            1. 傳輸層界面修飾

            通過在傳輸層表面引入緩沖層,改善能級匹配并鈍化界面缺陷。


            · ETL(電子傳輸層)修飾:在 TiO?或 SnO?表面涂覆超薄 Al?O?、ZnO 或有機分子(如 TPBi),可降低界面缺陷態密度,并使 TiO?的導帶與鈣鈦礦的導帶更匹配,減少電子在界面的積累。例如,Al?O?修飾的 TiO?/ 鈣鈦礦界面可使 PLQY 提升約 20%。


            · HTL(空穴傳輸層)修飾:在 Spiro-OMeTAD 或 PTAA 表面引入 CuI、NiO?或自組裝單分子層(如苯硫酚衍生物),可提高空穴提取效率,減少空穴在界面的滯留。例如,CuI 修飾的 Spiro-OMeTAD / 鈣鈦礦界面可使 PLQY 從 30% 提升至 50%。


            2. 鈣鈦礦 / 傳輸層能級匹配優化

            選擇與鈣鈦礦能級更匹配的傳輸材料,減少載流子提取勢壘。例如,相比 TiO?(導帶約 - 4.0 eV),SnO?的導帶(約 - 4.4 eV)更接近 MAPbI?的導帶(約 - 4.0 eV),電子提取更高效,界面復合更少,PLQY 更高(SnO?基器件 PLQY 通常比 TiO?基高 10%~20%)。


            四、穩定性提升:抑制降解引發的 PLQY 下降

            鈣鈦礦的降解(水、氧、光照誘導)會產生新缺陷(如 PbI?、PbO 雜質相),導致 PLQY 持續降低,因此提升穩定性是維持高 PLQY 的關鍵。


            1. 組分穩定化

            采用混合陽離子 / 陰離子體系(如 MA?.?FA?.?Cs?.?Pb (I?.?Br?.?)?),通過離子間的相互作用抑制晶格畸變和組分揮發,提升材料抗降解能力。例如,混合陽離子鈣鈦礦相比純 MA 基鈣鈦礦,在空氣中放置 100 小時后,PLQY 保留率從 30% 提升至 70%。


            2. 封裝與阻隔層設計

            通過封裝(如玻璃 / 金屬封裝)或引入水氧阻隔層(如 Al?O?、PET/Al 復合膜),減少水氧侵入。例如,Al?O?蒸鍍封裝的器件在 85% 濕度下放置 30 天,PLQY 仍保持初始值的 80% 以上(未封裝器件僅保留 10%)。


            五、激發條件優化:避免非輻射復合增強

            在測量或應用中,合理調控激發條件可避免 PLQY 被 “人為降低":


            · 激發強度調控:避免過高激發強度(如 > 101?光子 /cm2?s),防止載流子濃度過高引發俄歇復合(非輻射復合的一種);


            · 溫度控制:在需要高 PLQY 的場景(如發光應用),可適當降低溫度(如 77 K),抑制熱激活的缺陷捕獲,提升輻射復合占比。



            總結

            提高 PLQY 的核心策略可概括為:“缺陷鈍化為主,結晶與界面優化為輔,穩定性提升保障長效性"。通過表面 / 體相鈍化直接減少非輻射復合中心,結合結晶調控降低晶界缺陷,界面工程優化載流子提取,再輔以穩定性設計抑制降解,可顯著提升鈣鈦礦的 PLQY(目前優秀體系的 PLQY 已接近 100%)。這些策略不僅能提高 PLQY光致發光量子產率,還能同步提升太陽能電池的光伏性能(如開路電壓、EQE),因為低非輻射復合損失是高效器件的共同特征。


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